Filtek ONE Bulk Fill Restaurador para posteriores 4g 3M

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Composite Filtek™ One Bulk Fill

Diseñado para posteriores, sus exclusivas propiedades ópticas y su opacidad mejorada le ofrecen la simplicidad de la colocación en un solo incremento (hasta 5 mm) sin comprometer los resultados estéticos.


  • Colocación rápida y sencilla en un solo paso
  • Aumento de la opacidad para obtener una estética mejorada
  • Alivia el estrés permitiendo hasta 5 mm de profundidad de fotopolimerización
  • Adaptación excelente
  • Sin necesidad de varias capas ni de costosos dispositivos para colocación del material
  • Excelente manejo y modelado
  • La verdadera nanotecnología de 3M ofrece una resistencia superior al desgaste y una excelente retención de pulido
  • Alta radiopacidad
  • Diseño de punta único para acceder más fácilmente a cavidades profundas
  • Disponible en 2 colores

Manejo inteligente del Índice de contraste

  • Aumenta la opacidad sin sacrificar profundidad de fotopolimerización

    El desarrollo de la nanotecnología de 3M nos permite manejar la opacidad y la profundidad de fotopolimerización de un modo más inteligente. Con nuestra tecnología exclusiva de manejo inteligente del Índice de Contraste, hemos aumentado la opacidad sin reducir la profundidad de curado.

    Una vez polimerizado, el composite Filtek™ One Bulk Fill de 3M™ es más opaco que el Filtek™ Bulk Fill Posterior de 3M™, su estética mejora significativamente.

     

    Innovadores monómeros AUDMA y AFM

    Reduce la contracción y alivia el estrés permitiendo la colocación en bloques de hasta 5 mm.

     
    • AFM

      AFM

      El monómero de adición-fragmentación (AFM) alivia el estrés durante la polimerización.

     
    • AUDMA

      AUDMA

      El dimetacrilato de poliuretano aromático (AUDMA) ayuda a reducir la cantidad de contracción y el estrés que se producen durante la polimerización.

       

       

       

       

       

      La verdadera tecnología de nanorrelleno de 3M

      Ofrece una resistencia superior al desgaste y una excelente retención de pulido.

       
      • Aumento de 5K

        Aumento de 5K de nanoclúster

       
      • Aumento de 50K

        Aumento de 50K de nanoclúster

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